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鍍層測(cè)厚儀原理XRF-2020膜厚測(cè)試儀

更新時(shí)間:2024-11-04

簡(jiǎn)要描述:

韓國(guó)MicroP XRF-2020膜厚儀
檢測(cè)電子電鍍,五金電鍍,LED支架,端子連接器,半導(dǎo)體等電鍍層厚度
快速無(wú)損檢測(cè)電子電鍍層厚度
鍍層測(cè)厚儀原理XRF-2020膜厚測(cè)試儀


鍍層測(cè)厚儀原理XRF-2020膜厚測(cè)試儀


Microp XRF-2020

根據(jù)X射線穿透被測(cè)物時(shí)的強(qiáng)度衰減來(lái)進(jìn)行轉(zhuǎn)換測(cè)量厚度的,即測(cè)量被測(cè)金屬鍍層所吸收的X射線量,根據(jù)該X射線的能量值,確定被測(cè)件的厚度。

X射線探測(cè)頭將接收到的信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào),經(jīng)過(guò)前置放大器放大,再由專用測(cè)厚儀操作系統(tǒng)轉(zhuǎn)換為顯示出直觀的實(shí)際厚度信號(hào)

X射線源強(qiáng)度的大小,與X射線管的發(fā)射強(qiáng)度和被測(cè)物品所吸收的X射線強(qiáng)度相關(guān)。一個(gè)在系統(tǒng)量程范圍內(nèi)的厚度,為了確定其所需的X射線能量值,可利用X射線檢測(cè)儀進(jìn)行校準(zhǔn)。在檢測(cè)任一特殊厚度時(shí),系統(tǒng)將設(shè)定X射線的能量值,使檢測(cè)能夠順利完成。

   在厚度一定的情況下,X射線的能量值為常量。當(dāng)安全快門打開,X射線將從X射線源和探頭之間的被測(cè)物件中通過(guò),被測(cè)物件將一部分能量吸收,剩余的X射線被位于X射線源正上方的探頭接收,探頭將所接收的X射線轉(zhuǎn)換為與之大小相關(guān)的輸出電壓。如果改變被測(cè)物件的厚度。則所吸收的X射線量也將改變,這將使探頭所接收的X射線量發(fā)生變化,檢測(cè)信號(hào)也隨之發(fā)生相應(yīng)的變化。

XRF-2020鍍層測(cè)厚儀性能特點(diǎn)


由上往下照式

全自動(dòng)測(cè)試臺(tái)面

高精度移動(dòng)平臺(tái)

多個(gè)準(zhǔn)直器

高分辨率探頭

可視化操作

自動(dòng)定位移動(dòng)平臺(tái)

自動(dòng)尋找光斑

鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)

超大樣品腔設(shè)計(jì)

測(cè)試口安全防護(hù)

   

X射線測(cè)厚儀技術(shù)指標(biāo)如下圖 XRF-2020

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韓國(guó)MicroP XRF-2020膜厚儀


功能應(yīng)用:


檢測(cè)電子電鍍,五金電鍍,PCB板,LED支架半導(dǎo)體連接器等電鍍層厚度。

測(cè)量鍍金、鍍鋅、鍍鈀、鍍鉻、鍍銅、鍍銀、鍍錫、鍍鎳,鍍鋅鎳合金等

可測(cè)單層、雙層、多層、合金鍍層測(cè)量,不限底料

可測(cè)單鍍層,雙多鍍層,多鍍層及合金鍍層


部份測(cè)試范圍


鍍銀測(cè)量范圍0.1-50um

鍍鎳測(cè)量范圍0.5-30um

鍍銅測(cè)量范圍0.5-30um

鍍錫測(cè)量范圍0.5-50um

鍍金測(cè)量范圍0.03-6um

鍍鋅測(cè)量范圍1-30um

鋅鎳合金測(cè)量范圍1-25um

鍍鉻測(cè)量范圍0.5-25um


儀器規(guī)格

XRF-2020L型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高3cm:臺(tái)面載重3kg

XRF-2020H型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高10cm:臺(tái)載重5kg


儀器全自動(dòng)臺(tái)面,自動(dòng)雷射對(duì)焦,多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量

多個(gè)準(zhǔn)直器可選擇:0.1mm,0.2mm,0.3mm,0.4mm,0.03×0.5mm

可配多個(gè)或單個(gè)準(zhǔn)直器,準(zhǔn)直器大小可自動(dòng)切換


韓國(guó)先鋒XRF-2020L型,H型

(MicropXRF-2000,XRF-2020)




鍍層測(cè)厚儀原理XRF-2020膜厚測(cè)試儀:快速無(wú)損測(cè)量電鍍層膜厚




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